| Equipment（设备） | 详情 |
|---|---|
| ALD | ALDER - 1000 |
| Capacity（能力） |
Up to 45 φ300 wafers per batch (≥ 5hour per batch) 每批最多 45 φ300 个晶片（每批 ≥ 5 小时） |
| Product Characteristics（产品特性） | 详情 |
| Substarte Material（材料） |
Resin - based, glass - based, silicone - based substrate 树脂基、玻璃基、硅基 |
| Product Type（产品类型） |
Various types of flat and aspherical mirror coating; wafer coating (within 12"); Shaped structure coating 各类平片、非球面镜镀膜；晶圆镀膜（12“以内）；异形结构镀膜 |
| Coating material（镀膜材料） | SiO₂, TiO₂, Al₂O₃ |
| Optical properties（光学特性） | 详情 |
| Wavelength（工作波段） | 420 - 700nm |
| Reflectivity（420 - 700nm）（反射（420 - 700nm）） | Rmax<0.1% |
| Wide - angle（0°~40°）（大角度（0°~40°）） | Rmax＜0.5% |
| Appearance（外观规格） | 详情 |
| Appearance（外观水平） |
Surface Particle：1.0~10um 表面 Particle：1.0~10um |